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showashinku盒對(duì)盒式干法蝕刻裝置 濺射和離子板

showashinku盒對(duì)盒式干法蝕刻裝置 濺射和離子板SPE
真空室主要是配備運(yùn)輸機(jī)器人的運(yùn)輸室，由蝕刻室和盒室三個(gè)房間組成。
真空室材料由A5052制成，A5052對(duì)運(yùn)輸室，蝕刻室和盒室都進(jìn)行了脫脂處理。

  • 產(chǎn)品型號(hào)：SPE
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間：2023-04-11
  • 訪  問(wèn)  量：542
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showashinku盒對(duì)盒式干法蝕刻裝置 濺射和離子板SPE

showashinku盒對(duì)盒式干法蝕刻裝置 濺射和離子板SPE

特征
1.緊湊型設(shè)備
尺寸（1000mmW×1100mmD×1600mmH）
2.單晶圓系統(tǒng)，生產(chǎn)率高，是批量生產(chǎn)的理想選擇
3.加工質(zhì)量高

?單晶圓類型確保高蝕刻均勻性。

?背面采用非接觸式氣冷系統(tǒng)，不會(huì)損壞基板背面
4.采用高真空排氣裝置
5.高可維護(hù)性

?真空室的小型化便于維護(hù)
6.由于設(shè)備外形緊湊，安裝位置沒(méi)有限制
1.設(shè)備配置

真空室主要是配備運(yùn)輸機(jī)器人的運(yùn)輸室，由蝕刻室和盒室三個(gè)房間組成。
真空室材料由A5052制成，A5052對(duì)運(yùn)輸室，蝕刻室和盒室都進(jìn)行了脫脂處理。
2.排氣系統(tǒng)

渦輪分子泵1套（蝕刻室）
旋轉(zhuǎn)泵2套（蝕刻室、盒式室和運(yùn)輸室組合）
3.性能

極限壓力2.7×10-3Pa以下（蝕刻室）
排氣時(shí)間3分鐘內(nèi)至0.10×2-2Pa（蝕刻室）
蝕刻深度65nm *配對(duì)BK7玻璃（使用φ3英寸或φ4英寸基板時(shí)）
蝕刻分布±5%以內(nèi) *保修區(qū)域：50×50mm以下
循環(huán)時(shí)間300秒（24張/ 1盒，φ3或φ4英寸板）*參考值
4.供電系統(tǒng)

射頻電源最大 500W （13.56兆赫）
匹配盒全自動(dòng)匹配規(guī)格
5.氣體引入系統(tǒng)

CF/SF、氦、O2 質(zhì)量流量控制器 3
6.控制系統(tǒng)

使用定序器可以進(jìn)行全自動(dòng)操作。
處理的基板數(shù)量始終顯示在觸摸屏上，并且可以從最新的開(kāi)始檢查錯(cuò)誤歷史記錄。
7.外部尺寸

設(shè)備本體 1000mmW×1100mmD×1600mmH
設(shè)備重量 1000Kg
8.公用事業(yè)

電力200V 3φ 50/60Hz 12KVA
冷卻水ー
壓縮空氣0.5兆帕 20升/分鐘
N2氣體0.3兆帕 60升/分鐘




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